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TOK:加大研发力度,积极开拓光刻胶市场
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摘要
为实现45纳米光刻技术.浸没式光刻几乎是近年来被业界最频繁提及的光键词了.随着浸没式光刻应用于在45nm技术尘埃落定后.同时也可能延伸到32nm.与之相辅的新材料的开发也步入了白热化的阶段.光刻胶作为光刻材料的主力,更是如此。
出处
《集成电路应用》
2007年第3期27-27,共1页
Application of IC
关键词
光刻胶
纳米光刻技术
力度
研发
市场
光刻材料
浸没式
新材料
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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