应用材料推出45nm光掩膜刻蚀技术设备——Applied Centura Tetra III系统

近日．应用材料公司宣布推出先进的Applied Centura TetraTMⅢ掩膜刻蚀设备，它是目前唯一可以提供45纳米光掩膜刻蚀所需要的至关重要的纳米制造技术系统。TetraⅢ通过控制石英掩膜把刻槽深度控制在10A以内．同时把临界尺寸损失减小到10nm以下，使客户可以在最重要的器件层交替使用相移掩膜和强有力的光学临近修正技术。该系统为基于铬、石英、氮氧硅钼等多种新材料的下一代光刻技术应用提供无差错、高产能的刻蚀工艺。