LCD相关原材料产业发展态势(下)

4ITO玻璃 通常在基片玻璃上用电子束蒸发或在氧气气氛中溅射得到ITO膜，膜厚在100～300nm之间，由所需的电阻所确定。在溅射时，采用ITO合金靶，在SnO2-In2O3合金中，SnO2的浓度大约为5％-10％时，有利于得到最佳的ITO膜性能。在沉积过程中，氧气在氩气气氛中的浓度大约为1％，在这种条件下，退火后得到的比电阻率大约为2．0×10^-4Ω．cm^-1，膜厚在100nm时，方框电阻大约为200Ω／□。