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KTa_(1-x)Nb_xO_3薄膜的制备研究
被引量：
1
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职称材料
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摘要
结合自己的工作，介绍电光、热释电ＫＴａ１－ｘＮＢｘＯ３薄膜材料的制备研究进展，评述了Ｓｏｌ－Ｇｅｌ、ＰＬＤ、ＭＯＤ、ＬＰＥ和射频平面磁控溅射等技术制备ＫＴＮ薄膜的工艺特点，根据Ｓｏｌ－Ｇｅｌ技术制备ＫＴＮ材料的反应机理研究结果。
作者
王世敏
机构地区
湖北大学压电陶瓷技术研究所
出处
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1997年第2期168-173,共6页
Journal of Functional Materials
基金
国家自然科学基金
关键词
电光
热释电
薄膜
铁电
分类号
O484.1 [理学—固体物理]
TB43 [一般工业技术]
引文网络
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马卫东,王世敏,张端明,刘素铃,王新兵,徐启杨,李再光,田虎永.
用脉冲准分子激光在P-Si(100)衬底上沉积高取向KTN薄膜[J]
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