ITRS 2006中的重要变化

支年12月发布的ITRS 2006修正版，基本未对主要版本ITRS 2005做过多的修改。不过有一个例外就是增加双重图形作为潜在的45nm光刻解决方案（参见本刊《不改变光刻波长实现45nm半节距》一文）。另一个重要的变化出现在前段工艺和工艺集成领域。