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双重图形在ITRS中粉墨登场
被引量:
1
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摘要
按计划,2006年只推出ITRS修正版而非全新版本,因此其中的重大修改不可能太多。不过ITRS2006修正版的光刻篇则不然,几乎每一页都被改写。主要是因为出现了一个非常重要的更新,那就是将双重图形技术列为进一步提升193nm浸没式光刻(193i)分辨率的潜在解决方案。鉴于其在过去一年内的巨大影响力。
作者
Aaron
Hand(编)
机构地区
《集成电路应用》执行主编
出处
《集成电路应用》
2007年第4期34-34,共1页
Application of IC
关键词
图形技术
分辨率
浸没式
正版
光刻
版本
修改
改写
分类号
TP391.41 [自动化与计算机技术—计算机应用技术]
引文网络
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集成电路应用
2007年 第4期
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