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纳米压印跃过IDM龙门
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摘要
虽然纳米压印光刻在最近更新的ITRS中排名有所下滑(在22和16nm节点的潜在解决方案中,无掩膜光刻排到了它的前面),但Molecular Imprints Inc.(MII)公司还是宣布了它在这项技术上所取得的最新成绩,即将一台用于下一代光刻(NGL)的Imprio 250设备发售给一家主要的存储器芯片制造商。
出处
《集成电路应用》
2007年第4期34-34,共1页
Application of IC
关键词
纳米压印光刻
龙门
下一代光刻
芯片制造商
INC
存储器
节点
掩膜
分类号
TN305.93 [电子电信—物理电子学]
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集成电路应用
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