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Princeton小组加深对纳米压印的理解
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摘要
最近.普林斯顿大学(Pdnceton University)的研究人员在Nanotechnology((纳米技术》杂志上发表了两篇论文.介绍了他们在纳米压印光刻(NIL)领域内的重大进展.推动这项技术向着成为可行的、用于主流半导体制造的下一代光刻技术(NGL)选择方案迈进了几大步。
作者
Aaron Hand
机构地区
Semiconductor International
出处
《集成电路应用》
2007年第5期28-28,共1页
Application of IC
关键词
纳米压印光刻
下一代光刻技术
加深
普林斯顿大学
纳米技术
半导体制造
研究人员
论文
分类号
TN305.93 [电子电信—物理电子学]
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集成电路应用
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