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Princeton小组加深对纳米压印的理解

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摘要 最近.普林斯顿大学(Pdnceton University)的研究人员在Nanotechnology((纳米技术》杂志上发表了两篇论文.介绍了他们在纳米压印光刻(NIL)领域内的重大进展.推动这项技术向着成为可行的、用于主流半导体制造的下一代光刻技术(NGL)选择方案迈进了几大步。
作者 Aaron Hand
出处 《集成电路应用》 2007年第5期28-28,共1页 Application of IC
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