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硅衬底上铁电薄膜的自偏压异质结效应

Self-biased Heterojunction Effect of Ferroelectric Film on Silicon Substrate
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摘要 本文运用半导体能带理论探讨了硅衬底上铁电薄膜的异质结效应的物理模型.对用sol-gel工艺制备的PZT/Si结构的极化特性、开关特性和I-V特性的实验研究证实了这种效应. This paper presents a physical model of the heterojunction effect of ferroelectric film on silicon substrate in view of energy band in semiconductor. The polarization property, switching behavior and current-voltage (I-V) charateristics of sol-gel derived PZT/Si structure demonstrate the effect.
出处 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第2期113-117,共5页 半导体学报(英文版)
基金 国家863高科技计划资助
关键词 硅衬底 铁电薄膜 异质结效应 Electric properties Ferroelectric materials Semiconducting films Semiconducting silicon
  • 相关文献

参考文献2

二级参考文献5

  • 1卢德新,李佐宜,黄龙波,林更琪.射频磁控溅射制备铁电PLZT薄膜的研究[J].科学通报,1994,39(13):1177-1179. 被引量:3
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  • 4Xu Yuhuan,Ferroelectric Materials and Their Applications,1991年
  • 5黄龙波,人工晶体学报

共引文献2

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