压印法集成电路光刻技术

本项目提出一种创新的集成电路（IC）制造工艺路线，即压印光刻技术，并对该技术相关的压印和脱模工艺机理、紫外光固化阻蚀胶材料物化和工艺特性、与IC制造其它工艺的综合集成和优化、压印光刻设备的关键技术等进行研究和技术开发。