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大日本网屏推出支持多种清洗方式的晶圆洗净装置

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摘要 日本设备厂商大日本网屏制造7月将开始销售可支持多种清洗方式的枚叶式晶圆清洗设备“SS-3100”。据悉,该款产品支持300mm晶圆,可用于45nm工艺以下的LSI制造。通过引进晶圆高速搬运系统,该产品的单位时间处理量(Throughput)比上一代产品“SS-3000”(180枚/h)提高67%,达到300枚/h。
出处 《电子工业专用设备》 2007年第7期43-43,共1页 Equipment for Electronic Products Manufacturing
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