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低温无光釉的研制 被引量:1

PREPARATION OF MAT GLAZE FIRED AT LOW TEMPERATURE
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摘要 通过调整釉式中氧化铝和氧化硅的摩尔数,制备了一系列在较低的温度(1180℃~1220℃)下快速烧成的无光釉。采用扫描电镜对釉面进行表征,结果表明无光釉的形成主要是由于在釉层中存在微细的晶体,从而造成釉面无光。 A series of mat glaze were fast fired at low temperature (1180℃~1220℃)by changing the mole ratio of Al2O3/SiO2 in glaze formula. SEM was used to characterize the glaze. The results showed that there was number of small crystal particles in the glaze which made the glaze non-lustrous.
机构地区 景德镇陶瓷学院
出处 《中国陶瓷》 CAS CSCD 北大核心 2007年第8期36-37,共2页 China Ceramics
关键词 低温 快速烧成 无光釉 摩尔数 low temperature, mat glaze, preparation, mole number
  • 相关文献

参考文献1

二级参考文献2

  • 1李家驹等.日用陶瓷.武汉工业大学出版社,1990
  • 2中国硅酸盐学会陶瓷分会建筑卫生陶瓷委员会.现代建筑卫生陶瓷工程师手册,1996

共引文献7

同被引文献10

引证文献1

二级引证文献3

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