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离子束增强沉积技术在制备优良抗蚀膜层方面的研究进展 被引量:1

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摘要 介绍了一种新型表面改性技术——离子束增强沉积技术的原理、方法,综述了该技术在制备优良抗蚀膜层方面的优势及最新研究进展。
机构地区 西安交通大学
出处 《表面技术》 EI CAS CSCD 1997年第1期1-5,共5页 Surface Technology
  • 相关文献

参考文献5

二级参考文献13

  • 1柳襄怀,Nucl Instr Bethin Phys B,1989年,39卷,185页
  • 2Zhou Peide,Nucl Instr Meth Phys B,1985年,7/8期,195页
  • 3王培录,Nucl Instrum Methods Phys Res B,1991年,62卷,234页
  • 4王培禄,核技术,1990年,13卷,9期,545页
  • 5王培录,Vacuum,1989年,39卷,2/4期,289页
  • 6王培录,真空科学和技术,1989年,9卷,6期,411页
  • 7卢浩琳,核技术,1988年,11卷,3期,15页
  • 8王培录,核技术,1987年,10卷,1期,51页
  • 9Chan W K,1987年
  • 10Misra M S,1987年

共引文献4

同被引文献34

引证文献1

二级引证文献6

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