出处
《钛工业进展》
CAS
1997年第2期22-23,共2页
Titanium Industry Progress
同被引文献6
1 [5]Chung Wan Kim et al.Anti-oxidation properties of TiAlN film prepared by plasma-assisted chemical vapor deposition and roles of Al.The Solid Films,307(1997):113 ～ 119
2 Chung Wan Kim, et al. Anti-oxidation properties of TiAlN film prepared by plasma-assisted chemical vapor deposition and roles or Al. the solid films 307(1997). 113 - 119
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