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无平面结敏感区硅光电探测器

Design of Antireflection Layer in Silicon Photoelectric Device
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摘要 研制了在平面PN结内无敏感区的硅光电探测器,测量了这种新结构器件的光电转换特性,说明在一定的均匀光照下,器件的光电流也有一定的值。利用本文的分析模型,可以得到该器件的有效光敏面积,从而可以确定衬底材料中光生少子的扩散长度。 Using the reflectivity states of SiO 2 Si system in air, the influence of thickness of SiO 2 layer and wavelength of light to reflectivity is discussed.It is proposed that how to determine the thickness of SiO 2 layer in two cases:(1)Minimize reflectivity in some range of wavelength; (2)maximize photoelectric current at some light condition.
机构地区 武汉大学物理系
出处 《半导体杂志》 1997年第3期9-11,共3页
关键词 光纤通信 无平面结 敏感区 光电探测器 semiconductor photoelectric Si SiO 2 antireflection
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参考文献1

二级参考文献1

  • 1尹长松,第八届全国半导体集成电路与硅材料学术会议论文集,1993年

共引文献2

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