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离子束溅射沉积薄膜技术概述
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摘要
离子束溅射技术是近些年发展起来的制备高质量薄膜的一种非常重要的方法,它具有其它制膜技术无法比拟的优点,在制膜过程中,由于沉积速度慢,膜的厚度及质量容易控制。目前国内对这方面研究和介绍甚少。本文主要介绍离子束溅射技术的原理、基本规律及应用前景。
作者
郑长波
徐惠敏
杨恒
齐曙光
机构地区
南阳师范学院物理与电子工程学院
南阳市第八中学
出处
《实验室科学》
2007年第4期153-156,共4页
Laboratory Science
关键词
离子束溅射
溅射产额
溅射阈能
薄膜
分类号
TB43 [一般工业技术]
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