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离子束溅射沉积薄膜技术概述 被引量:6

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摘要 离子束溅射技术是近些年发展起来的制备高质量薄膜的一种非常重要的方法,它具有其它制膜技术无法比拟的优点,在制膜过程中,由于沉积速度慢,膜的厚度及质量容易控制。目前国内对这方面研究和介绍甚少。本文主要介绍离子束溅射技术的原理、基本规律及应用前景。
出处 《实验室科学》 2007年第4期153-156,共4页 Laboratory Science
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参考文献1

二级参考文献1

  • 1Wei D T,Appl Opt,1989年,28卷,14期,2813页

共引文献13

同被引文献73

引证文献6

二级引证文献10

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