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线性电位扫描方法在电镀生产研究中的应用 被引量:1

Application of Linear Potential Sweep Method in Electroplating
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摘要 评述了线性电位扫描方法在电镀生产研究中的应用,对稳态极化曲线、循环伏安曲线所表示的意义以及电结晶过程、阳板溶解过程、欠电位沉积等的伏安曲线进行了讨论。 Applications of linear potential sweep method in electroplating research are introduced. The voltammetric curves of electrocrystallization, anodic dissolution and ullaged potential deposition phenomena as well as the information shown in the steady-state and cyclic voltammetric curves are studied.
作者 陈永言
机构地区 武汉大学化学系
出处 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 1997年第1期1-5,共5页 Electroplating & Finishing
关键词 电镀 线性电位扫描 循环伏安法 电化学 electroplating, linear potential sweep, voltammetry
  • 相关文献

参考文献6

二级参考文献4

  • 1陈文亮,邹津耘,黄国英,吴博平,娄世荣.酸性光亮镀铜电解液中添加剂的整平作用研究[J]武汉大学学报(自然科学版),1978(03).
  • 2[美]巴德(Bord,A,J·),[美]福克纳(Faulkner,L,R·) 著,谷林镆等.电化学方法[M]化学工业出版社,1986.
  • 3吴水清.印制板照相底版误差的校正[J]电子工艺技术,1987(07).
  • 4吴水清.蚀刻液稳定剂[J]电子工艺技术,1986(Z2).

共引文献13

同被引文献12

引证文献1

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