期刊文献+

InP衬底上LP-MOCVD生长InAs自组装量子点 被引量:1

InAs Self-assembled Quantum Dots Grown on (001)InP by LP-MOCVD
下载PDF
导出
摘要 报道利用低压金属有机化学气相沉积(LP-MOCVD)技术在(001)InP衬底上生长InAs自组装量子点的结果,用光致发光技术观察到较强的室温光荧光谱,其峰值波长约为1603um,分布在1300um^1700um范围内。 The present paper covers the results of room temperature photoluminescence (PL) emis-sion from InAs self-assembled quantum dots (QDs) in the 1 300 nm^1700 nm spectral region. The low pressure MOCVD was used to grow lnAs QDs on an InP substrate. Preliminary characterization was performed using PL and scanning electron microscopy (SEM). PL peaks are centered at 1 603nm, the full width at half-maximum (FWHM) is about 80 meV.
出处 《吉林大学自然科学学报》 CAS CSCD 1997年第2期70-72,共3页 Acta Scientiarum Naturalium Universitatis Jilinensis
基金 集成光电子学国家重点实验室基金
关键词 砷化铟 自组装量子点 MOCVD 磷化铟 衬底 InAs self-assembled quantum dots, LP-MOCVD, InP substrate
  • 相关文献

参考文献1

  • 1Xie Qianghua,J Vac Sci Technol B,1995年,13卷,642页

同被引文献2

  • 1Xie Qianghua,J Vac Sci Technol B,1995年,13卷,642页
  • 2Yong Jinchun,Jpn J Appl Phys,1993年,32卷,L1085页

引证文献1

二级引证文献3

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部