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晶圆针测技术的异常问题分析与研究 被引量:1

Analysis and Research Results of Wafer Probing on Abnormal Problem
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摘要 在晶圆探针测试当中,常会由于测试环境或是针测机台参数的改变,使得针痕不正常偏移并打出开窗区,造成测试时的误宰,因而造成公司的损失。文章将就晶圆针测中,由于温度变化所造成的不正常针痕偏移进行分析与研究。 In wafer testing process, it will causes abnormal probe mark shift and probe mark out of the pad due to the changing of testing environment or prober parameters. That will cause overkill and then diminish the company profit .So at here, I will share my analysis and research results on abnormal probe mark shift due to temperature change during the wafer testing process.
作者 罗士凯 汪辉
出处 《电子与封装》 2007年第9期1-3,共3页 Electronics & Packaging
关键词 晶圆针测 误宰 针痕偏移 wafer probing overkill probe mark shift
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参考文献1

  • 1Nakajima,S.Introduction to TPM[].Total Productive Maintenance.

同被引文献1

引证文献1

二级引证文献1

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