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ZC36微电流测试仪测量非晶硅有效隙态密度

Measurement of Effective Density of Gap States in Amorphous Silicon with Type of ZC36 Microgalvanometer
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摘要 首次报告了用国产的廉价的ZC36型微电流测试仪测量非晶硅有效隙态密度的原理和结果,其结果与美国生产的昂贵的4061A型半导体综合测试仪测量结果相一致。 The principle and result of measuring effective density of gap states in amor- phous silicon with type of ZC36 micmgalvanometer which is cheap equipment made in P R China are first reported in this paper. The result is in agreement with one measured with type of 4061A semiconductor synthetical measurement equipment which is expensive made in U . S. A.
作者 唐元洪
出处 《湖南大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 1997年第3期17-20,共4页 Journal of Hunan University:Natural Sciences
关键词 非晶硅 隙态密度 半导体 微电流测试仪 amorphous silicon , measurement equipment , gap state density
  • 相关文献

参考文献5

  • 1唐元洪,半导体杂志,1997年,22卷,1期,1页
  • 2钟伯强,非晶态半导体材料及其应用,1991年
  • 3唐元洪,固体电子学研究与进展,1988年,8卷,4期,342页
  • 4颜一凡,湖南大学学报,1988年,15卷,2期,1页
  • 5石惟明,兆欧表的使用和维修,1985年

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