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低温低氧压下激光法在金属基底上沉积高温超导薄膜的缓冲层钇稳定氧化锆 被引量:1

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摘要 制备高临界电流J_c的高温超导线材与带材是高温超导走向强电应用的重要课题.与Bi系及T1系相比,YBa_2Cu_3O_(7-δ)(YBCO)的不可逆线低,在液氮温区仍有很强的钉扎力.YBa_2Cu_3O_(7-δ)已在单晶基片上生长出很高质量的薄膜,J.高达(5~6)×10~6A/cm^2.但是单晶基底对强电应用是不利的,为了使YBCO薄膜的优良性能应用于带材,必须把YBCO沉积到可弯曲并且便宜的金属基底上.为防止金属基底与YBCO之间的扩散反应,用钇稳定氧化锆(YSZ)做缓冲层.但是用这种薄膜沉积法得到的带材由于不是外延生长,J_c为 10~3~10~4A/cm^2.近来人们用离子束辅助沉积法(IBAD)在金属基底上得到具有平面内织构的YSZ缓冲层,并在其上外延生长出J_c达到 10~6A/cm^2的YBCO薄膜。
出处 《科学通报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第12期1265-1269,共5页 Chinese Science Bulletin
  • 相关文献

参考文献1

  • 1Xu X D,Appl Phys Lett,1995年,67卷,16期,2397页

同被引文献7

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  • 4Zhao Z X,Chin Sci Bull,1987年,32卷,681页
  • 5Mu M K,Phys Rev Lett,1987年,58卷,908页
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引证文献1

二级引证文献5

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