聚硅烷在XeCl准分子激光作用下光降解及亚微米光刻的研究被引量：3

SYNTHESIS AND CRYSTAL STRUCTURE STUD

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摘要采用３０８ｎｍＸｅＣｌ准分子激光研究了聚硅烷溶液和聚硅烷薄膜的光降解反应，利用玻璃片为基底，旋转涂布，分别以酚醛树脂和聚氨酯为平坦层，以聚硅烷为成像层和阻挡层，构成双层工艺，进行接近式曝光，用混合溶剂显影，并通过Ｏ２－ＲＩＥ处理，最终得到了亚微米的光刻图形．

作者傅鹤鉴李高全谭键马洪陈德本谢茂浓

机构地区四川大学化学系四川大学物理系

出处《四川大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 1997年第4期489-492,共4页 Journal of Sichuan University(Natural Science Edition)

基金国家自然科学基金

关键词聚硅烷光降解光刻亚微米光刻准分子激光

分类号 O634.41 [理学—高分子化学]

引文网络
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四川大学学报（自然科学版）

1997年第4期

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