电子回旋共振等离子体沉积氮化碳(CN)膜的工艺及XPS研究被引量：1

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摘要电子回旋共振等离子体沉积氮化碳（ＣＮ）膜的工艺及ＸＰＳ研究＊张大忠孙官清刘仲阳陈剑王宣梁学才（原子核科学技术研究所）钟光武（西南物理研究院核聚变研究所）低温低压沉积的硬质材料不仅可用于涂敷热稳定材料以改善其表面特性，而且还可作为薄膜型光、电、磁器件的...

作者张大忠孙官清刘仲阳陈剑 梁学才钟光武

机构地区原子核科学技术研究所西南物理研究院核聚变研究所

出处《四川大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 1997年第4期530-533,共4页 Journal of Sichuan University(Natural Science Edition)

基金防科工委预研局资助

关键词电子回旋共振等离子体沉积氮化碳膜 XPS

参考文献3

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四川大学学报（自然科学版）

1997年第4期

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