期刊文献+

Altera凭全新合作模式推动45nm芯片成功

下载PDF
导出
摘要 在半导体发展过程中,每两年更新一次的工艺技术总是能带来密度更高、速度更快、功耗更低的芯片产品。Altera公司技术开发副总裁Mojy Chian表示,更新的45nm工艺相对于65nm工艺的优势要大于65nm相对于90nm的优势。然而,他同时指出,45nm芯片设计和制造的进入门槛也会大幅提高。生产线建设成本、工艺开发成本,以及芯片研发和制造的总成本和复杂度都将成倍增加。
作者
出处 《电子设计应用》 2007年第12期134-134,共1页 Electronic Design & Application World
  • 相关文献

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部