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吸附示差脉冲伏安法测定纯锡中痕量钛 被引量:6

Determination of Trace Titanium in Tin by Differential Pulse Adsorption Voltammetry
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摘要 Ti(Ⅳ)在0.01mol/L NaAc-0.001mol/L HAc,2.9×10^(-5)mol/L二苯胍(DPG),1×10^(-6)mol/L或1×10^(-7)mol/L 8-羟基萘-3,6-二磺酸偶氮-间羟基二乙基苯胺(Beryllon Ⅲ)体系中,产生一良好的络合吸附波,其峰电位为-0.64V(vs.Ag/AgCl),峰电流与钛浓度在7.3×10^(-10)~1.2×10^(-7)mol/L范围内呈线性关系,检出限可达1.7×10^(-10)mol/L(富集120s)。本法应用于纯锡中痕量钛的测定,结果较好。 In the solution of 0.01mol/L NaAc-0.001mol/L HAc, 2.9×10^(-5)mol/L diphenylguanidine (DPG) and 1×10^(-6) mol/L or 1×10^(-7) mol/L 4- [(4-diethylamino-2-hydroxyphenyi)azo] -5-hydroxynaphthalene -2, 7-disulphonic acid (BeryUon Ⅲ), a sensitive oomplex adsorption wave of the Ti (Ⅳ) -DPG-BeryUon Ⅲ is observed by differential pulse adsorption voltammetry. The peak potential height is -0.64 V (vs. Ag/AgCl). The current peak was proportional to the ooncentration of Ti (Ⅳ) in the range 7.3×10^(-10)- 1.2×10^(-7) mol/L. Under optimum experimental conditions, the detction limit of 1.7×10^(-10)mol/L can be obtained. The method was applied to the determination of trace titanium in tin with satisfactory results.
作者 王雪莹
出处 《冶金分析》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第4期21-22,共2页 Metallurgical Analysis
关键词 锡分析 痕量分析 络合物 吸附还原峰 Differential pulse voltammetry Titanium Trace analysis
  • 相关文献

参考文献6

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共引文献3

同被引文献1187

引证文献6

二级引证文献10

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