美国SP3公司为赫瑞瓦特大学安装先进的金刚石沉积设备化学气相沉积金刚石应用新进展

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摘要美国SP3金刚石技术公司（以下简称SP3公司）是一家全球领先的金刚石薄膜产品、生长设备以及服务供应商。在不久前销售出一套先进的650型热丝法CVD金刚石沉积设备之后，

出处《磨料磨具通讯》 2007年第11期31-31,共1页

关键词 CVD金刚石沉积设备化学气相沉积 SP3 美国应用安装大学

1京东方10．5代TFT—LCD线已订购沉积设备[J].电器,2016,0(12).
2聂东林,杨丽颖.计算机控制的PCVD系统[J].山东建材学院学报,1996,10(3):53-56.
3孙亦宁,郭晓土,李敬起.微波等离子体化学气相沉积金刚石簿膜[J].真空与低温,1994,13(4):198-200. 被引量：1
4汪忆桦.量子阱能带工程及其应用新进展[J].半导体光电,1991,12(4):357-362.
5魏景新,王琳.Turbo码编译码原理与应用新进展[J].华北科技学院学报,2007,4(1):58-61. 被引量：2
6傅剑宇,陈大鹏,焦斌斌,欧毅,景玉鹏,董立军,叶甜春.基于原子力显微镜的悬臂梁微尖端器件应用新进展[J].电子工业专用设备,2007,36(1):10-14. 被引量：1
7刘永进.电化学沉积设备在集成电路制造中的应用及发展现状[J].电子工业专用设备,2016,45(11):4-6. 被引量：1
8改善晶圆表面平坦度的方法[J].表面技术,2008,37(1):53-53.
9邓志杰（摘译）.SemiLEDs公司研制出6英寸LED芯片[J].现代材料动态,2010(1):5-5.
10张荣,施洪涛,郑有,于是东,何宇亮,刘湘娜.热丝法低温生长硅上单晶碳化硅薄膜[J].高技术通讯,1994,4(11):10-13. 被引量：5

磨料磨具通讯

2007年第11期

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