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从10微米到45纳米——英特尔45nm+High-K技术解析
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摘要
2007年11月16日,英特尔发布一系列新处理器产品,其中包括用于双路服务器的Xeon系列处理器和用于高端PC的处理器。它们均采用了目前最先进的45nm制程技术。戈登·摩尔先生给予了这项技术极高的评价:“采用High-K栅介质和金属栅极材料,是自上世纪60年代晚期推出多晶硅栅极金属氧化物半导体(MOS)晶体管以来,
作者
李琪
出处
《信息系统工程》
2007年第12期31-37,共7页
关键词
制程技术
英特尔
金属氧化物半导体
解析
纳米
微米
金属栅极
双路服务器
分类号
TP332 [自动化与计算机技术—计算机系统结构]
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信息系统工程
2007年 第12期
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