期刊文献+

热平衡等离子体热力学函数理论计算 被引量:3

Theoretical calculation for thermodynamics function of thermal plasmas
下载PDF
导出
摘要 以统计热力学和化学平衡理论为基础,引用原子、分子的光谱数据,计算了在温度300~20000K范围内,双原子分子体系的热平衡等离子体的热力学函数(H、Cp,m)。给出了氮等离子体体系的分子离解度、电离度和摩尔定压热容随温度变化的关系曲线。所得结果在较低温度范围与经验公式表达的结果良好相符。对较高温度区间的结果作了分析和讨论,并利用最小二乘法给出了氮体系的摩尔热容量的拟合公式。为热等离子体的应用提供了可以参考的数据。 Based on statistical thermodynamics and chemical equilibrium theory, citing the spectral data of the atom and molecule, the thermodynamics function(H, Cp, m) of diatomic molecule system at thermo-equilibrium is derived in the temperature range from 300K to 20000K. As an example, the dependence of molecular dissociation, atomic ionization and the molar heat capacity for nitrogen plasma system are given. It is shown that the results are in good agreement with those from empirical formula at lower temperature (T〈3800K). The results in the higher temperature range are analyzed and discussed, and an analytic expression is given by the least-squares method for the molar heat capacity of nitrogen system.
出处 《核聚变与等离子体物理》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第4期343-347,共5页 Nuclear Fusion and Plasma Physics
基金 国家自然科学基金资助项目(19935010)
关键词 热等离子体 统计热力学 配分函数 摩尔定压热容 热力学函数 Thermal plasma Statistical thermodynamics Partition function Molar heat capacity Thermo- dynamics function
  • 相关文献

参考文献8

  • 1Pierre Fauchais, Armelle Vardelle. Thermal plasmas [J]. IEEE Transactions on Plasma Science, 1997, 25(6): 1258.
  • 2徐光宪 王祥云.物质结构[M].北京:高等教育出版社,1987.567-569.
  • 3B.格罗斯.等离子体技术[M].北京:科学出版社,1980.1.
  • 4Robert C W. CRC handbook chemistry and physics [M]. New York: CRC. Press, 1988. 209.
  • 5徐克尊,陈宏芳,周子舫.近代物理学[M].北京:高等教育出版社,1990.238.
  • 6Jad Batteh. A methodology for computing thermodynamic and transport properties of plasma mixtures in ETC injectors [J]. IEEE Transactions on Magnetics, 1995, 31(1): 388.
  • 7Mofreh R Z. A consistent model for the equilibrium thermodynamic functions of partially ionized flibe plasma with Coulomb corrections [J]. Physics of Plasmas, 2003, 10 (2): 527.
  • 8王正烈,周亚平.物理化学[M].北京:高等教育出版社,2003.310.

共引文献12

同被引文献28

  • 1黄锐,林璇英,余云鹏,林揆训,姚若河,黄文勇,魏俊红,王照奎,余楚迎.多晶硅薄膜低温生长中晶粒大小的控制[J].物理学报,2004,53(11):3950-3955. 被引量:8
  • 2吴翊,荣命哲,杨茜,胡光霞.低压空气电弧动态特性仿真及分析[J].中国电机工程学报,2005,25(21):143-148. 被引量:61
  • 3肖户卫.中国硅太阳能电池投资过热现象[J].中国科技信息,2006(17):320-321. 被引量:4
  • 4余思明.半导体硅材料学[M].长沙:中南工业大学出版社,1992.
  • 5Jing Zou, Susan Kauzlarich. Functionalization of Silicon Nanoparticles via Silanization: Alkyl, Halide and Ester [J]. Journal of Cluster Science,2008 (19) : 341 -355.
  • 6K.博姆哈梅尔,S.克特尔,G.勒维尔,等.通过四氯化硅的催化加氢脱卤制备三氯甲硅烷的工艺[P]:中国专利,CN1946636A.2007-04-11.
  • 7A V Gusev, R A Komev, A Yu Sukhanov. Preparation of Trichlorosilane by Plasma Hydrogenation of Silicon Tetrachloride[ J]. Inorganic Materials, 2006 (42) : 1123 - 1126.
  • 8A V Gusev, R A Komev, A Yu Sukhanov. Behavior of Carbon -containing Impurities during Plasma Synthesis of Trichlorosilane [ J ]. High Energy Chemistry, 2008 (42) : 56 - 58.
  • 9Kravchenko Yu. S. , Osadchuk V. S. , Slovetskii D. I. , et al. [J]. Khim Vys Energ, 1989, 23(5) :444.
  • 10FAUCHAIS P,BOULOS M I,PFENDER E.Thermal plasmas:fundamentals and applications[M].New York,NY,USA:Plenum,1994:10-23.

引证文献3

二级引证文献19

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部