摘要
利名称：中温印染的有机硅消泡剂及其制备方法
专利申请号：CN200410066187.1 公开号：CN1641097
申请日：2004.12.10 公开日：2005.07.20
申请人：曹治平
本发明公开了一种中温印染用的有机硅消泡剂及其制备方法,包括消泡活性物、乳化剂、增稠剂和去离子水;消泡活性物包括聚有机硅氧烷、疏水粒子、偶联剂以及催化剂：其中聚有机硅氧烷结构通式为RaSiO（4-a）/2,其中R为取代或非取代的一价烃基,疏水粒子为气相法的白炭黑,
出处
《染整技术》
CAS
2007年第12期49-50,共2页
Textile Dyeing and Finishing Journal
