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国内首台自主知识产权直写式光刻机将在肥面世
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摘要
日前,从位于合肥市经济开发区的芯硕半导体(合肥)有限公司传来消息,国内首台具有世界领先水平、拥有自主知识产权的直写式光刻机即将在合肥面世.标志着我国亚微米级光刻机完全依赖进口的局面将被打破。
机构地区
《安徽科技》记者
出处
《安徽科技》
2007年第12期29-29,共1页
Anhui Science & Technology
关键词
自主知识产权
光刻机
国内
经济开发区
合肥市
亚微米级
半导体
进口
分类号
F426.471 [经济管理—产业经济]
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1
国内首台自主知识产权“光刻机”面世[J]
.军民两用技术与产品,2008(1):29-29.
2
国内首台完全自主知识产权“光刻机”合肥面世[J]
.合肥科技,2007(12):6-6.
3
国内首台自主知识产权“光刻机”面世[J]
.新材料产业,2008(2):75-76.
4
章从福.
国产首台直写式光刻机在合肥问世[J]
.半导体信息,2008,0(1):1-1.
5
国内首台自主研发“光刻机”在合肥面世[J]
.中国科技投资,2008(3):12-12.
6
国内首台自主研发光刻机面世[J]
.激光与光电子学进展,2008,45(2):37-37.
7
我国首台拥有自主知识产权精密光刻机问世[J]
.发明与创新(大科技),2008(2):38-38.
8
新产品·新技术[J]
.中国信息导报,2007(11):64-64.
9
我国首台精密光刻机问世[J]
.信息技术与信息化,2008(1):12-12.
10
浸入式光刻技术取得重大突破[J]
.电子产品与技术,2004(5):14-14.
安徽科技
2007年 第12期
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