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45nm IC设计面临的挑战

How Low Can You Go? A Look at 45-nm-IC-Design Challenges
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摘要 如果你拥有针对65nm甚至90nm节点的工具,转换到45nm节点就不需要更换工具。但设计者转到这一节点时必须采用一些先进的设计技术,并了解一些新的设计规则,代工厂用这些规则来确保SoC设计能达到可接受的成品率。 If you have tools for the 65-nm or even the 90-nm node, moving to the 45-nm node requires no retooling. But designers moving to this node must adopt some advanced design techniques and be aware of some new design rules that foundries have imposed to ensure that SOC designs yield acceptable results.
机构地区 EDN
出处 《电子设计技术 EDN CHINA》 2007年第12期54-56,58,60,62,64,共7页 EDN CHINA
  • 相关文献

参考文献3

  • 1Wilson,Ron." Leakage grows, high-k approaches: the world of 45-nm CMOS,"[]..2007
  • 2Santarini,Michael."Taking a bite out of power: tech-niques for low-power-ASIC design,"[].EDN.2007
  • 3Santarini,Michael." Sifting the DFM players,"[].EDN.2006

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