期刊导航
期刊开放获取
河南省图书馆
退出
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
片子步进机发展趋势
下载PDF
职称材料
导出
摘要
片子步进机发展趋势本刊编辑部光刻既是晶片加工的主要成本因素(约占晶片全部加工成本的35%),又是增加电路功能特性的驱动技术,同时,也是半导体工业进步的决定性技术。因此,在技术规划和投资中,光刻一直占踞着十分显要的位置。用于IC图形转印的光刻技术,一直...
出处
《电子工业专用设备》
1997年第2期1-4,11,共5页
Equipment for Electronic Products Manufacturing
关键词
光刻
片子步进机
晶片加工
半导体
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
引文网络
相关文献
节点文献
二级参考文献
0
参考文献
0
共引文献
0
同被引文献
0
引证文献
0
二级引证文献
0
1
童志义.
用于0.35微米生产的宽视场远紫外片子步进机[J]
.电子工业专用设备,1996,25(2):38-47.
2
Dieter Burggraaf,童志义.
VLSI制造中片子步进机镜头的选择[J]
.电子工业专用设备,1989(2):51-57.
3
Brin.,MA,童志义.
采用逐场调平和总体对准技术的0.54NAi线片子步进机[J]
.电子工业专用设备,1997,26(1):49-61.
4
张世恩,童志义.
我国半导体设备现状及发展建议(续)[J]
.电子工业专用设备,1998,27(2):6-15.
被引量:2
5
Kawai.,H,董表义.
300mm 片子步进机的流片率[J]
.电子工业专用设备,1997,26(3):56-59.
6
AaronJ.Hand,立文.
KrF光刻:使命未尽[J]
.电子工业专用设备,2001,30(3):49-52.
被引量:1
7
楚山.
FAB蚀刻对Si晶片中的微加工[J]
.等离子体应用技术快报,1995(2):19-20.
8
半导体技术[J]
.中国学术期刊文摘,2007,13(22):6-6.
9
许宝兴.
封装技术动向[J]
.现代表面贴装资讯,2009(6):38-40.
被引量:1
10
远洋.
天津赛法:精湛技艺绽放蓝宝石光辉[J]
.天津科技,2007,34(2):26-27.
电子工业专用设备
1997年 第2期
职称评审材料打包下载
相关作者
内容加载中请稍等...
相关机构
内容加载中请稍等...
相关主题
内容加载中请稍等...
浏览历史
内容加载中请稍等...
;
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部