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电抛光和电解加工的进展 被引量:2

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出处 《国外金属加工》 1990年第2期38-43,13,共7页
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同被引文献7

  • 1张海岩,沈健,朱树敏.用于电解抛光的非水电解液的研究[J].表面技术,1995,24(6):23-24. 被引量:2
  • 2费道吉耶夫,格里利赫斯著;巩德全译.金属的电化学浸蚀、抛光和氧化[M].北京:中国工业出版社,1962.32.
  • 3鲍格拉德著,郭泽沛译.金属的电化学抛光[M].北京:国防工业出版社,1955.121.
  • 4F Klocke,M Sparrer.Electrochemistry polishing-The Faster way to Finished Die and mould[J].Int.Tournal of manufacturing science,1998,1 (4):136.
  • 5Masuzawa T.Quick finishing of WEDM products by ECM using a mate-electrode[J].Annals of CIRP,1997,46(1):123.
  • 6杨华.现代抛光技术——电抛光[J].国外医学(口腔医学分册),1999,26(1):25-27. 被引量:5
  • 7张安富,周宇帆,李国洪.不锈钢的电化学抛光新工艺[J].表面技术,1992,21(3):132-134. 被引量:10

引证文献2

二级引证文献3

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