i线相移掩模检查装置

为了采用曝光波长为0.365μm的光源制作0.35～0.30μm图形。采用了i线步进方法,并研制了相移掩模。该掩模是由相移法构成图形,同时采用了光的干涉方法进行曝光形成微细图形,最重要的是相移器透过率和相移,其通过相移器的透过率与玻璃的透过率进行比较而测定,该测定重复性达±0.05％,测定相移量应用微分干涉显微镜原理,为了获得高精度相移量,采用了条纹扫描干涉法,测定重复性达到±1°,相对应的模厚为±0.8nm。