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化合物薄膜的光学增透特性及其应用 被引量:5

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摘要 对几种典型的化合物薄膜的增透原理、增透功效、光学增透材料的主要性能及应用前景进行了较为详尽的分析和叙述。
出处 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第3期212-215,共4页 Chinese Journal of Rare Metals
  • 相关文献

参考文献8

  • 1乐兆昌.真空镀膜机在制备SiO增透膜中的应用[J].半导体技术,1989,5(3):51-53. 被引量:1
  • 2张兴德,赵秀丽,程玉峰.锗在红外技术上的应用和发展趋势[J]稀有金属,1988(06).
  • 3章开琏,马志龙,朱庄德,田民波,李恒德.钛板彩色画工艺研究[J]稀有金属,1984(05).
  • 4周立.薄膜技术的发展和应用[J]稀有金属,1983(02).
  • 5戎瑞.锁模激光器的声光腔倒空特性[J]激光与红外,1973(10).
  • 6黄德群等.新型光学材料[M]科学出版社,1991.
  • 7田民波,刘德令编.薄膜科学与技术手册[M]机械工业出版社,1991.
  • 8《电子元件材料手册》编写组编,曲喜新.电子元件材料手册[M]电子工业出版社,1989.

同被引文献60

引证文献5

二级引证文献26

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