摘要
2008年，全球半导体业界将迎来集成电路（IC）诞生50周年，将会隆重而热烈地为之庆典。应该看到，1958年美国德克萨斯仪器公司（TI）发明集成电路，是20世纪人类科技史上最为璀璨的明珠之一。当今，集成电路以其极大的活力和渗透力深入到社会、经济、科技、生活和国防等各个领域，对世界经济发展和社会进步的影响已是无处不在、无时不用。
出处
《中国集成电路》
2008年第1期20-26,共7页
China lntegrated Circuit
同被引文献28
-
1高廷耀.水污染控制工程[M].北京:高等教育出版社.2007.
-
2Corlett G.Targeting water use for chemical mechanical pol-ishing[J].Solid State Technology,2000,43(6):201-206.
-
3Semiconductor Industry Association.The National Technol-ogy Roadmap for Semiconductors[R].3rd edition.1997.
-
4Yang Gordon C C.CMP wastewater management using theconcepts of design for environment[J].Environmental Pro-gress,2002,21(1):57-62.
-
5Smith E,Bayan M,Daniels M.Optimum physical chemicalpretreatment of copper damascene wastewater[J].Water Sci-ence and Technology,2003,47(10):71-77.
-
6Yang Gordon C C,Tsai Chi-Ming.Performance evaluationof a simultaneous electrocoagulation and electrofiltrationmodule for the treat ment of Cu-CMP and oxide-CMPwastewaters[J].Journal of Membrane Science,2006,286(1):36-44.
-
7Browne S,Krygier V,O’Sullivan J,et al.Treating wastew-ater from CMP using ultrafiltration[J].MICRO,1999,17(1):5-14.
-
8Chou Wei-lung,Wang Chih-ta,Chang Shih-yu.Study ofCOD and turbidity removal from real oxide-CMP wastewa-ter by iron electrocoagulation and the evaluation of specificenergy consumption[J].Journal of Hazardous Materials,2009,168(3):1200-1207.
-
9刘训瑜,甘其铨,邱显盛,等.化学机械研磨废水混凝沉淀效能之评估[C].第二十五屆废水处理研讨会论文集,2000:661-666.
-
10Lien C Y,Liu J C.Treatment of polishing wastewater fromsemiconductor manufacturer by dispersed air flotation[J].Journal of Environmental Engineering,2006,132(1):51-57.
二级引证文献5
-
1涂燕红,郝双龙,吴婷,李小忠,陈寒松.膜过滤工艺应用于研磨废水处理的案例分析[J].现代化工,2020,40(S01):226-228. 被引量：1
-
2周橙,肖谣,代琳,钱明德.研磨废液的处理研究[J].安徽化工,2018,44(6):93-96.
-
3吕伟,夏欣语,马邕文,孙煦.集成电路业废水处理技术研究进展[J].当代化工研究,2023(3):67-69.
-
4王小雨,黄小霞,高磊.重金属抗性菌及其去除CMP废水中Cu2+的研究进展[J].工业水处理,2023,43(3):31-38. 被引量：1
-
5王峥嵘.电厂废水处理及回用探讨[J].中外企业家,2015(11Z):219-220. 被引量：1
-
1田德全.贝尔德——电视机的发明者[J].现代阅读,2013(9):64-64.
-
2集成电路产业链变迁的思考[J].电子技术与软件工程,2016,0(6):3-4.
-
3刘伟.新一代数字信号处理器TMS320C50[J].电话与交换,1997(1):26-29.
-
4同亮.华为北美LTE实验室在德克萨斯落成[J].邮电设计技术,2009(8):15-15.
-
5抱团式的豪赌？DELL并购EMC[J].新潮电子,2015,0(11):34-35.
-
6吴杰.浅析物联网技术与应用研究[J].科学中国人,2015(6Z).
-
7Microtune公司电视调谐器出货量突破1．5亿片[J].电子工业专用设备,2010(2):69-69.
-
8IC相关知识[J].信息技术与标准化,2003(3):39-39.
-
9AlexThomas,胡孝乾.明科 OnlyDisk U222闪存盘[J].科技新时代（下半月）,2005(6):46-46.
-
10杨斌.论电子信息科学技术的未来发展[J].广东科技,2013,22(3):148-149. 被引量：5
