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我国亚微米级光刻机有望实现国产
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摘要
具有世界先进水平、拥有自主知识产权的直写式光刻机即将于12月底在合肥面世,我国亚微米级光刻机完全依赖进口的局面有望被打破。
出处
《机电工程技术》
2007年第12期5-5,共1页
Mechanical & Electrical Engineering Technology
关键词
亚微米级
光刻机
国产
自主知识产权
分类号
TQ560.6 [化学工程—炸药化工]
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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机电工程技术
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