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国内首台自主知识产权“光刻机”面世

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摘要 合肥经济开发区管委会对外宣布,具有世界领先水平、完全属于自主知识产权的国内第一台无掩膜式(直写式)“光刻机”在合肥研制成功,这标志着我国亚微米级光刻机完全依赖进口的局面被打破。
出处 《新材料产业》 2008年第2期75-76,共2页 Advanced Materials Industry
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