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国内首台自主知识产权“光刻机”面世
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摘要
合肥经济开发区管委会对外宣布,具有世界领先水平、完全属于自主知识产权的国内第一台无掩膜式(直写式)“光刻机”在合肥研制成功,这标志着我国亚微米级光刻机完全依赖进口的局面被打破。
出处
《新材料产业》
2008年第2期75-76,共2页
Advanced Materials Industry
关键词
自主知识产权
光刻机
国内
经济开发区
亚微米级
合肥
进口
分类号
F426.471 [经济管理—产业经济]
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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