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Mo/SiO_2 软 X 射线多层膜的结构研究

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摘要 本文用磁控溅射方法制备了几种Mo/SiO2多层膜。在北京同步辐射装置(BSRF)的衍射站上测量了其低角X射线衍射(XRD)谱,并利用基于光学动力学理论的递推公式对低角X射线衍射谱进行了拟合,定量分析了膜层的周期结构和界面粗糙度以及界面粗糙度与层数、层厚的关系。同时用高分辨电子显微镜(HREM)对一样品的截面进行了观察。
出处 《电子显微学报》 CAS CSCD 1997年第4期545-546,共2页 Journal of Chinese Electron Microscopy Society
基金 国家自然科学基金
  • 相关文献

参考文献2

  • 1黎刚,薄膜材料与物理—中国青年学者物理学研讨会论文摘要集,1996年
  • 2高琛,同步辐射及其应用—中国青年学者物理学研讨会论文摘要集,1995年

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