摘要
本文用磁控溅射方法制备了几种Mo/SiO2多层膜。在北京同步辐射装置(BSRF)的衍射站上测量了其低角X射线衍射(XRD)谱,并利用基于光学动力学理论的递推公式对低角X射线衍射谱进行了拟合,定量分析了膜层的周期结构和界面粗糙度以及界面粗糙度与层数、层厚的关系。同时用高分辨电子显微镜(HREM)对一样品的截面进行了观察。
出处
《电子显微学报》
CAS
CSCD
1997年第4期545-546,共2页
Journal of Chinese Electron Microscopy Society
基金
国家自然科学基金