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硅片高温翘曲与常温机械强度 被引量:5

Warpage at High Temperature and Mechanical Strength of Silicon Wafers
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摘要 不同抗弯强度硅片高温弯曲度变化的实验结果表明,众多因素对抗弯强度和高温弯曲度的影响规律是一致的.高温翘曲度或弯曲度与抗弯强度有内在联系.抗弯强度不仅表示硅片在常温下的抗破碎能力,而且也反应了高温抗翘曲和弯曲能力. The relationship of the warpageat at high temperature and fie-cure strength of silicon wafers is studied by measurement of fie-cure strength and change of bowingness of silicon wafers after heat treatment. The laws of effect of various factors on warpage and fie-cure strength of silicon wafers are all the same. The fie-cure strength of silicon wafer can reflect its ability of anti-warping or bowing at high temperature to a certain degree.
出处 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第9期710-713,共4页 半导体学报(英文版)
基金 国家教委硅材料重点实验室基金
关键词 硅片 高温翘曲 抗弯强度 实验 Bending strength Heat treatment Strength of materials WSI circuits
  • 相关文献

参考文献2

  • 1谢书银,GB/T 15615-1995硅片抗弯强度测试方法,1995年
  • 2王从赞,GB/T 6619-1995硅片弯曲度测试方法,1995年

同被引文献11

引证文献5

二级引证文献24

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