第二届真空热处理技术培训班通知
出处
《真空电子技术》
2007年第6期65-65,共1页
Vacuum Electronics
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1蒋长春.电真空材料的真空热处理[J].上海钢研,1989(3):58-60.
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2周冠山.石英管真空热处理工艺[J].真空与低温,1991,10(1):52-58. 被引量：1
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3第八届真空镀膜设备及应用技术培训班——深圳行[J].真空电子技术,2009,22(5):58-58.
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4刘永红,赵高扬,张卫华.溶胶凝胶法制备的ITO薄膜电学及光学性能的研究[J].功能材料,2004,35(4):487-488. 被引量：3
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5张浩康,钟锐,许晓伟.热处理对MIM薄膜二极管中Ta_2O_5膜表面形貌的影响[J].光电子技术,2003,23(3):194-198.
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6沈鸿烈,高超,黄海宾.真空热处理制备β-FeSi2光电薄膜的研究[J].功能材料,2007,38(A01):370-372. 被引量：1
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7白锁柱,姚斌,苏文辉.B_(0.44)C_(0.27)N_(0.29)化合物的合成、表征和性能[J].物理学报,2005,54(10):4627-4632. 被引量：5
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8张灶利,肖治纲,杜国维.Si衬底上Co薄膜氧化观察[J].金属学报,1994,30(6).
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9黄蕙芬,唐泽荣,钟锐,张浩康.热处理对MIM薄膜二极管Ta_2O_5绝缘膜微结构及其IU特性的影响[J].真空科学与技术,1999,19(6):461-465. 被引量：3
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10钟战天,王大文,廖显伯,牟善明,范越,李承芳.Al/a-Si:H界面反应和热处理行为光发射研究[J].Journal of Semiconductors,1991,12(2):68-72.
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