国内首台自主研发光刻机面世

近日，国内首台具有世界领先水平、拥有自主知识产权的无掩模光刻机在合肥面世。由中国工程院院士张钟华、叶声华等专家组成的鉴定组在鉴定后认为，芯硕半导体（中国）有限公司的“光刻机”技术，填补了国内光刻机在该项领域的空白，并且在国际同类产品中处于先进水平。