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关键图形在IC版图设计中的应用研究
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摘要
本文在CD7358GS关键图形设计实践的基础上,总结了旨在监测元器件特性和监控工艺能力的关键图形的设计方法,从而为分析工艺缺陷、设计容限、工艺稳定性等找到了切实有效的方法,并为进而提高成品率提供了有力的手段,这些方法可以推广到NSA工艺其他品种IC的版图设计中去。
作者
石林初
机构地区
中国华晶电子集团公司双极电路总厂
出处
《微电子技术》
1997年第2期53-58,共6页
Microelectronic Technology
关键词
IC
版图设计
双极型
ANSA工艺
分类号
TN431.02 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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微电子技术
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