我国首台拥有自主知识产权精密光刻机问世

日前,国内首台具有世界领先水平、拥有自主知识产权的无掩膜（直写式）光刻机在合肥面世。由张钟华、叶声华等院士带队的专家鉴定组在鉴定后认为，该成果在国际同类产品中处于先进水平，分辨率已经达亚微米，性能稳定可靠，填补了国内光刻机在该领域的空白。