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金属线刻蚀工序光刻胶剥离工程中金属颗粒(Cu)析出案例调查及解决方案

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摘要 在现今大规模集成电路制造过程中,某些Memory,LCD产品的金属线刻蚀工序,在刻蚀生成聚合物的洗净过程中容易产成金属颗粒(主要是Cu颗粒)。对其工艺流程因素,机台硬件因素,产生机理进行了调查,得出了结论,并提出了有效的解决方案。
作者 陈帆 戎蒙恬
出处 《黑龙江科技信息》 2008年第8期27-27,178,共2页 Heilongjiang Science and Technology Information
  • 相关文献

参考文献3

  • 1L.Peters."Advanced luminum Interconnect Tech-nology,"[]..1998
  • 2A.Sethuraman,J.F.Wang,and L.Cook."Copper vs.Aluminum:Aplanarization Perspective"[]..1996
  • 3Michael Quirk,Julian Serda,韩郑生等译."Semiconductor Manufacturing Technology"[]..

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