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一种改善快速晶闸管 dv/dt、di/dt 耐量的方法 被引量:2

A Method to Improve the d v /d t and d i /d t Capabilities of a Fast Switching Thyristor
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摘要 分析了借助镓高斯函数浓度分布改善快速晶闸管dv/dt、di/dt耐量的机理,并给出实验结果。 The improvement on the d v /d t ,d i /d t capabilities of a fast switching thyristor is studied with the Ga gaussian distribution,and experimental results are given.
出处 《电力电子技术》 CSCD 北大核心 1997年第3期82-84,共3页 Power Electronics
关键词 电流上升率 电压上升率 晶闸管 impuirty d i /d t d v /d t fastswithing thyristor
  • 相关文献

同被引文献5

  • 1[英]Tayicr PD.庞银锁 译.晶闸管的设计与制造,北京:中国铁道出版社.1992:73-75.
  • 2P D TAYLOR著.晶闸管的设计与制造(庞银锁译)[M].北京:中国铁道出版社,1992.
  • 3Benda V,Gower J,Grant D A.Power Semiconductor Device Theory and Application [M].England:Johy willey & Sons, 1999.
  • 4Vcnkateswara A Sankaran,Jerry L Hudgins.Repetitive Switching Using Thyristors for High Energy and High di/ dt Applications [A].PESC '91 Record,Massachusetts[C]. 1991:24-27.
  • 5裴素华,薛成山,赵善麒.开管镓扩散技术改善快速晶闸管通态特性[J].固体电子学研究与进展,1997,17(3):268-271. 被引量:4

引证文献2

二级引证文献7

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