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罗门哈斯再推新品

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摘要 2008年1月30日，罗门哈斯公司电子材料CMP技术事业部宣布其Vision Pad平台家族又添新品——Vision Pad 5000CMP研磨垫。这款研磨垫可用于65nm以下存储及逻辑芯片的量产，能大大降低浅沟槽隔离工艺（STI）及层间绝缘（ILD）应用的缺陷率。

出处《CAD/CAM与制造业信息化》 2008年第2期1-1,共1页 DIGITAL MANUFACTURING INDUSTRY

关键词罗门哈斯公司 CMP技术电子材料逻辑芯片层间绝缘隔离工艺缺陷率

分类号 TN470.597 [电子电信—微电子学与固体电子学] F416.7 [经济管理—产业经济]

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7宋湘云.集成电路隔离技术（Ⅰ）[J].微电子学,1994,24(3):41-45.
8新品发布[J].CAD/CAM与制造业信息化,2008(8):1-1.
9马静.罗门哈斯电子材料宣布与IBM合作共同开发32纳米和22纳米制程的先进CMP技术[J].精细与专用化学品,2008,16(7):30-30. 被引量：1
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CAD/CAM与制造业信息化

2008年第2期

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