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AMEC发布新型蚀刻与CVD设备

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摘要 中微半导体设备(Advanced Micro-Fabfication Equipment.AMEC)12月正式发布了两款新产品:蚀刻装置“PrimoD—R1E”和CVD装置“Primo HPCVD”。AMEC称,两款产品均针对65nm及45nm工艺节点,比市场现有产品处理能力高出35%,因此成本理论上也可下降35%。
出处 《集成电路应用》 2008年第1期14-14,共1页 Application of IC
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