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45nm节点的应力工程和版图环境的影响

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摘要我们综合考虑了45nm节点工艺中的多种应力来源,讨论了一种用于处理版图依赖问题的方法,并且检验了混合取向技术(HOT)的潜力。

作者 Ricardo Borges Victor Moroz Xiaopeng Xu

机构地区 Synopsys Inc

出处《集成电路应用》 2008年第1期36-39,共4页 Application of IC

关键词版图应力节点环境工程

分类号 TN402 [电子电信—微电子学与固体电子学] TU375.4 [建筑科学—结构工程]

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集成电路应用

2008年第1期

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