新思科技与中芯国际携手推出增强型90纳采参考流程，以降低集成电路的设计和测试成本

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摘要中芯国际集成电路制造有限公司日前宣布，共同推出一个支持层次化设计及多电压设计的增强型90纳米RTL-to-GDsII参考设计流程。该流程受益于当前最先进的逻辑综合、可测性设计（DFT）和可制造性设计（DFM）技术，其主要特性包括：Design Compiler TM Ultra产品的拓扑综合（topographical synthesis）

出处《电子质量》 2008年第3期75-75,共1页 Electronics Quality

关键词中芯国际集成电路制造有限公司参考设计流程增强型参考流程测试成本科技可制造性设计层次化设计

分类号 TN402 [电子电信—微电子学与固体电子学] F426.67 [经济管理—产业经济]

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